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      技術(shù)中心

      集成電路脈沖鍍銅添加劑開發(fā)已進入中試階段

      • 發(fā)布日期:2020/12/22 11:52:05 閱讀次數(shù):1649
      •        隨著5G技術(shù)的推廣,要求其通訊器件關(guān)鍵核心材料之一的高頻/高速印制電路板(PCB)實現(xiàn)高多層、高導熱性,常規(guī)的直流電鍍金屬化及導熱孔制作工藝無法滿足5G通訊基板的生產(chǎn)需求,脈沖電鍍通孔技術(shù)應運而生。當前,制作5G通訊基板的脈沖電鍍技術(shù)和產(chǎn)品被歐美等國外少數(shù)公司壟斷,國內(nèi)企業(yè)的產(chǎn)品性能與之有一定差距。


               受企業(yè)委托,省科學院測試分析所依托于所建設(shè)的廣東省工業(yè)助劑逆向工程技術(shù)研究中心,聯(lián)合省內(nèi)高校、企業(yè)建立了產(chǎn)學研聯(lián)合攻關(guān)團隊,對制作5G通訊基板中使用的工業(yè)助劑——脈沖鍍銅添加劑進行研發(fā),以期解決國產(chǎn)脈沖鍍銅添加劑在使用過程中存在的易產(chǎn)生柱狀結(jié)晶(耐腐蝕性差、易斷裂)、密集孔和獨立孔的深鍍能力相差較大(>15%)等問題,實現(xiàn)對進口產(chǎn)品的替代。


               脈沖鍍銅添加劑的核心是抑制劑。測試分析所研究人員發(fā)現(xiàn),氨基起始的抑制劑在脈沖電鍍過程中有良好的吸附/脫附平衡性能,可以有效解決鍍層結(jié)晶形態(tài),減少電路板密集孔與獨立孔區(qū)域表面鍍層的厚度極差。因此,采用含氮及含氧化合物,化學構(gòu)建氨基起始的樹脂狀化合物,并以此為關(guān)鍵中間體復配得到脈沖鍍銅添加劑產(chǎn)品。前期小試顯示,該添加劑有如下優(yōu)點:(1) 鍍層無柱狀結(jié)晶;(2) 深鍍能力高,密集孔與獨立孔的深鍍能力相差<5%;(3)電流密度大,電鍍時間短,產(chǎn)能明顯提高。產(chǎn)品符合“綠色制造”要求,與國外主流產(chǎn)品性能相當,企業(yè)已申請發(fā)明專利1項。目前產(chǎn)品進入中試階段,后續(xù)將進行產(chǎn)線測試和產(chǎn)業(yè)化推廣。


                                        

                                                                 圖 脈沖電鍍應用實例及效果圖




        (來源:中國廣州分析測試中心官網(wǎng))

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